进口硫化铜CuS
样品名称 | 硫化铜CuS(Copper Sulfide) 单晶 |
性质 | 半导体 |
带隙 | 块体带隙1.6 eV |
参数 | 尺寸3-7mm,纯度≧99.9995% |
应用 | 半导体电子器件,传感器-探测器,光学器件等研究 |
其他信息 |
详情请发邮件至:mknano@126.com, sale@mukenano.com. |
单晶CuS(Copper Sulfide) 是利用我们实验室专利技术生长。 我们生长的每块
单晶耗时3个月左右以保证我们为您提供完美晶格的单晶。 每块单晶都是有很好的
结晶性,层状结构以保证易于剥离。
我们实验室有着进5年的单晶生长经验,每块晶体都有很好的可重复性。单晶
CuS块体的尺寸可以达到3-7mm级别,纯度可以达到99.995%甚至更高的纯度。
单晶CuS块体带隙为1.6 eV,我们所合成的单晶CuS没有其他的杂相,没有其他
的非晶相。我们的CuS单晶具有很大的晶畴,可以得到很大的单层。
另外我们还提供免费的机械剥离和转移技术。
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